In der Mikroelektronik und Pharmaindustrie wird Ozon zunehmend zur Desinfektion und Kalt-Sanitisierung von Reinstwasserlager und -verteilsystemen eingesetzt. Dabei wird das Ozon elektrolytisch erzeugt. Abhängig von den Systemparametern wie Aufbau der Ringleitung und der Vorbehandlung beträgt die notwendige Ozonkonzentration 20 bis 100 ppb. Moderne Anlagensysteme die mehrstufige Osmose- und Elektroionisationskomponeten enthalten betreibt man meist nur mit 20-30 ppb Ozon.
Vor der Nutzung im Prozess muss dieses Ozon jedoch zerstört werden. Dabei ist die Restozonvernichtung mit UV das ideale Verfahren.
Hierfür werden jedoch nur Strahler mit einer Wellenlänge von 254 nm verwendet. Wenn ozonbildende Strahler verwendet werden, können die generierten Hydroxylradikale auch eine Messung des Restozons verfälschen (Siehe Absorptionsspektrum des des Ozon).
Die typische UV-Dosis liegt zwischen 850 – 1200 J/m² (abhängig von der Ozoneingangskonzentration und dem Zielwert).
Zur Restozonvernichtung in Reinstwassersystemen werden UV-Anlagen der PH - Serie eingesetzt.
